佳能尼康大桥摄影器材,尼康 佳能

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于佳能尼康大桥摄影器材的问题，于是小编就整理了4个相关介绍佳能尼康大桥摄影器材的解答，让我们一起看看吧。

1. 拍摄月全食需要什么器材？
2. 可以分享一些日常的摄影作品吗？
3. 旅行摄影，轻装简行。你会带哪些摄影装备？会怎么拍摄沿途的风景？
4. 中国目前光刻机处于怎样的水平？

拍摄月全食需要什么器材？

一直喜欢手机摄影，也用手机拍过月食，就和大家分享一下，手机拍月食需要的器材吧！

虽然效果上和摄影老师们的”长枪短炮“比不了，但准备简单的”手机外接“设备，我们也可以拍出”天文大月亮“。

由此可见，我们用手机也能拍出不错的”大月亮“。只需要我们准备三件外接设备——手机长焦镜头、三角架、耳机线（遥控器）+1个手机摄影APP。

上图中的月食就是用这款18倍外接长焦拍摄。某宝上一搜有很多，价位在100元左右。

● 在选择长焦时注意两点：

1）要和你手机型号（镜头）匹配，购买前仔细问问商家（目前，双镜头手机也有专门的外接镜头了）

2）留意手机长焦镜头的拍摄距离（网上卖的普遍是15倍，少量18倍，贵一些的有更远的）

从天文角度来说月食的日子不适宜拍月球。完全没有月球上环形山的细节。就好像拍人像跑到别人头上拍一个脑袋一样。实在要拍，可以拍动态图之类的。

错摄影的角度来说：你需要一些创意，把月亮融入地景中。为了细节，你需要一个长焦镜头，把月亮拍大一点。具体要多大，根据需要而定。一下是经验：1500mm焦距的望远镜可以基本拍满整个画面，换算成半幅相机就是1米焦距。如果你想要月亮占画面的1/4左右，可以考虑用半幅相机配55-250那个镜头。或者全幅配700-200+增倍镜。

由于光线比较暗三脚架是必须的，除非你用很高ISO还加上补光。由于月食是晚上，你可以考虑为地景配一些照明设施。

与专业的天文摄影不同，我们不需要过度追求器材。适当丰富画面元素就会有意想不到的惊喜，如加上人物、地标，或是前景。

器材上，常规是单反+长焦，400mm-600mm以上的长焦是拍月亮的绝佳伴侣，如果你手里没有这样的镜头，那就将相机焦段拉到最长。或者使用增距镜来加长你的镜头。

有脚架的当然上脚架，月亮比较亮时手持相机也能拍摄，但是变暗时手持容易糊，用脚架会好很多。

现在手机的摄影功能也日趋完善，所以拍摄也并不一定必须是单反，手机的广角镜头及特有的延时摄影一样可以拍出漂亮的星轨哦！

· 怎么拍？ ·

天体摄影最重要的两点就是，焦距和曝光。

焦距的问题我们可以依靠器材和后期的裁剪来克服，而曝光问题需要我们的不断测试。

拍摄时，将相机调到 M 档手动模式，曝光准确与否的标准是能看清月面细节。对焦时，无论是否是拍摄特写，都要把焦距拉到最近（被拍摄物放大到最大），对上焦后再拉远构图，这样对焦会更准确，建议在此时将对焦模式也调为手动模式，之后拍摄时小心别碰到对焦环。

第一长焦镜头，这个是必须的！长焦才能拍到的！

第二个，必须的还有个三脚架！长焦镜头加相机，有点分量的，得上架子了

第三个，快门线，也是防止相机抖动的，@色影无忌 补充你这一点

可以分享一些日常的摄影作品吗？

山花烂漫的季节来了……

又到杏花盛开的季节，去年的杏花酒正香，今年你准备好坛子了吗？来二张今年的杏花，正是迷人的好时节。

忽如一夜春风来，千树万树梨花开。

杏花过后，梨花接踵而至，春天的功课太多，实在是应接不暇，美丽的大自然给我们带来多少幸福和乐趣啊？尽情的感恩和享受吧！

拍几张花片留做回味……能说心里不是一样也开了花吗？

这是我在奥克兰海岸边的高山上徒步时手机拍的一组海天一色照片。天蓝蓝的，海蓝蓝的，我仿佛行走于海天之间，面对无垠的碧海蓝天，我突然开悟了许多许多：该放手的就放手吧！让心灵清装才能真正放飞自我！

有些人总是质疑说可以跟别人分享一些他自己的日常摄影作品吗，其实这个话题是很简单不过的，只要是你日常生活的写照，不涉及你个人隐私的摄影作品，是完全可以对外分享的，你许你的日常摄影作品还会给别人带去一种美感了！

旅行摄影，轻装简行。你会带哪些摄影装备？会怎么拍摄沿途的风景？

第一，闪光灯可以不带，但是碳纤维三脚架一定要带上的。

第二，充电器、电池、储存卡。

第三，有的[_a***_]还带上笔记本电脑，自驾车出发时是可以的。个人觉得只要多带几个储存卡，就不必带笔记本电脑了。

第四，应急药品、防雨摄影马甲……

负责任地告诉你，一部长焦机足够了。

从2006年到2014年，我用过两部长焦机，一部富士12Ｘ，一部尼康Ｌ120。好巧不巧，那几年我刚好到处旅行，用这两部相机，拍下了沿途大量的风景和微距小品，甚至还得到过几幅有点看头的人像。

我们常说的旅行摄影要一镜走天下，不外乎挂上一个18--200之类的头，兼顾广角与长焦，基本上大多数的题材都能收纳进来。其实这点功能，在长焦机中，完全不值一提。以我的尼康Ｌ120为例，等效焦距25--525，无论广角还是长焦都不输于常见的挂机头。更不要说现在的长焦机动辄30倍以上的变焦，以及恒定光圈之类的黑科技加持，使得人们在这一细分领域可以有更多选择。

而且长焦机还有一个更突出的优势：轻巧便携。这一点对于以“旅行”为前置行为的摄影来说，是一个十分务实的选项，完全符合题主“轻装简行”的要求。旅行途中，人们会更加认同“诗与远方”，为了找到自己心中与众不同的风景，愿意为之走更多的路。这种情况下，长焦机不至于像单反那样成为负累，轻便的优势会成倍放大。特别是像我这样一旦进山，可以一路行摄六七个小时而停不下来的，脖子上挂一个430克的长焦机和1000克的单反（加镜头），体验绝对不一样。

中国目前光刻机处于怎样的水平？

关于国产光刻机目前处于什么水平，网上的各种消息让人搞的有点乱。一边有人说我们的光刻机仍然处于90nm水平，一边又有人说我们的光刻机已经处于5nm水平了，国产光刻机究竟什么水平？

关于这个90nm和5nm水平，大部分是混淆了两个机器，虽然这两个机器名字只有一字之差，但是它所代表的意义就大不相同。

国产光刻机水平：目前是90nm水平，其它更加先进的仍旧处于实验室阶段，想要实现商用还需要很长一段时间。

2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收，它的光刻分辨力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

但是这也是仅仅处于实验室阶段，也就是想要真正的投入商用还是需要很长一段时间。

国产蚀刻机水平：中微半导体做的蚀刻机已经达到了5nm水平，也得到了台积电的相关认证，可以说是非常领先的。

这里大部分人就是混淆了这个光刻机和蚀刻机两个概念，虽然它们只有一字之差，但是意义却大不相同。全球能做顶级蚀刻机的有好几家，而能做最顶级光刻机的只有荷兰的ASML一家。

在芯片生产过程中，光刻机相当于在一块晶圆上复印了一张画的图案（也就是芯片内部电路图的图案）而蚀刻机作用就是把光刻机复印的图案进行雕刻。

相比于光刻机，蚀刻机的地位并不是非常的重要，因为全球范围能做顶级蚀刻机的有好几家厂商，能做顶级光刻机的只有ASML一家独大。佳能和尼康也可以做光刻机，但是与ASML根本不是一个级别的。

可以说在芯片生产过程中，光刻机相当于一个人体的头部起着控制作用，而蚀刻机只能说是人体的四肢。脑部有选择性，它可以不用你这个四肢，也就是换用其它家的顶级蚀刻机，而光刻机就独此一家。

    我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺，我国的高端光刻机全部依靠进口。下文具体说一说。

    光刻机的技术门槛极高，可以说是集人类智慧大成的产物。

    ASML的光刻机超过90%的零件向外***购，整个设备***用了全世界上最先进的技术，是多个国家共同努力的结果，比如德国的光学设备和精密机械，美国的计量设备和光源设备。一台7nm EUV光刻机包含了5万多个零件，13个系统，需要把误差分散到这个13个子系统中，所以每个配件必须得非常精准。

    最关键的是生产光刻机所需的关键零件，对我国是禁运的，所以制约了我国光刻机技术的发展。

    目前，全球光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML，占领了80%的市场，日本的尼康和佳能已经被ASML完全击败。最先进的EUV光刻机，只有ASML能够生产。大家所使用的的手机的处理器、电脑的CPU，大部分是ASML的光刻机制造出来的。

    ASML的7nm EUV光刻机已经非常成熟，华为的麒麟980处理器、苹果的A12处理器、高通的骁***55处理器均是有台积电代工使用ASML的7nm 光刻机生产的。据说，ASML已经开始生产5nm制程的光刻机。

日前（2020/05/14），全球芯片制造设备巨头阿斯麦（ASML)）公司与无锡高新区签署战略合作协议。原以为这是引领核心技术产业发展的一面旗帜？但只是一场美丽的误会，ASML只是在无锡升级光刻设备技术服务基地。

若设备进口不算，还停留在实验室阶段的也不算，实际上代表国产光刻机最高水平的目前还仍是上海微电子的90nm制程工艺。

那为什么会有人认为咱们光刻机已经进入了22nm时代？甚至说5nm工艺？

其实是误解。关于5nm的说法其实是刻蚀机技术，并非光刻机。早在2018年的时候，中微半导体就宣布掌握了5nm刻蚀机技术，还通过了台积电5nm工艺校验。

但是，光刻机国产化进程显然要比刻蚀机要缓慢太多！22nm时代至多是踏入了半只脚。

2018年11月，中科院光电所经过7年研发，成功验收了“超分辨光刻装备项目”。据悉，这是世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，能够实现22nm光刻工艺。

4月份上海微电子也宣布实现了22nm光刻机的研发突破。但就没有透露其它的细节信息。这样也只能是用“停留”在试验室来定论了，毕竟目前看来光刻机22nm节点离商业化落地还较远，短时间内无法迅速落地并进行生产。

目前来看，我国自研的光刻机还依然处于制程工艺为90纳米的水准。

这个水准的光刻机，隶属于第四代步进扫描式光刻机，***用的是波长为193纳米的，深紫外光ArF光源，其制程工艺在135纳米-65纳米之间。

与浸没式光刻机相比差半代，与EUV光刻机相比差一代。

国内这型制程工艺在90纳米的光刻机，也就是由上海微电子生产的SSX-600/20型光刻机。

该光刻机***用了四倍缩小物镜，自适应调焦调平技术，六自由度工件台掩膜台技术，可以适应8寸或者12寸的晶圆。

也就是说，目前国内最先进的光刻机，也只能达到90纳米的制程工艺，不过经过多次曝光之后，估计制程工艺还会进一步缩小。

而国际上最先进的，制程工艺最低的，就是ASML集成的EUV光刻机。该光刻机的制程工艺已经达到了7纳米，***用了波长为13.5纳米的EUV光源；镀了近百层钼和硅制成薄膜的反射镜，而薄膜的粗糙度控制在零点几纳米级别；还有运动精度误差控制在1.8纳米的双工件台。以上只是EUV光刻机，最为重要的三大部件。而一整台EUV光刻机是由10万多个零部件，且还要经过工程师上百万次的调试，才可以交付使用。

到此，以上就是小编对于佳能尼康大桥摄影器材的问题就介绍到这了，希望介绍关于佳能尼康大桥摄影器材的4点解答对大家有用。