cysgjj 发布于2024-03-26 11:24:20 摄影器材 941 次
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光刻机又叫做:掩膜对准曝光系统,光刻系统等,简单的来说光刻就是将硅圆表面涂上光刻胶,通过光将掩膜版上复杂的电路结构***到光刻胶上面的过程,我国目前能生产光刻机的主要有以下几家:
- 上海微电子装备有限公司,已经量产90nm光刻机,其65nm光刻机商用量产也已经提上日程
- 中子科技集第四十五研究所光电已经量产的是1500nm光刻机
- 先腾光电科技已经量产800nm光刻机
- 无锡影速光电科技目前已经量产200nm光刻机
谈到光刻机就不得不谈到ASML,这个光刻机行业说一不二的庞然大物,只有它能生产7nm级别的光刻机,每台7nm制程光刻机售价1.2亿美元,17年产量只有12台,预计今年达到18台,至于其“一视同仁”的态度,中国不知道哪一年能买到一台,中国光刻机企业在其面前就是一个小孩。
很多人都有疑问中国在晶圆材料,蚀刻机,e—beam,掩膜,标靶,封装等领域都有了巨大突的突破,华微电子的芯片材料和中微半导体科技的蚀刻机都是世界一流,为什么单单光刻机攻克不了。
第一没有足够的技术和人才积累,半导体行业在我国起步晚,在国外的技术封锁之下,技术底子薄,尤其在机械精度方面差距甚远,高端光刻机需要做到两个平台同时运动,而差距不能超过2nm,这而一根头发的宽度是60000nm。
第二没有顶尖的零件,ASML的零件全是各行业的龙头企业提供,镜头来自德国蔡司,光源来自没过cymer,机器组装来自韩国和台湾,都是各行业最顶尖的存在,而中国什么都得自己来。
第三没有足够的资金,ASML每年的研究开发费用都是以十亿美元为单位,中国企业虽然在国家扶持之下,有了更多的研发资金,但是显然还达不到这个水平。
中国芯片行业的进步是毋庸置疑,同时也要直面一些方面巨大的差距,发扬中华民族吃苦耐劳的民族精神,通过自己的努力把路一步一步走出来,因为落后只能被欺负。
当然可以生产光刻机,上海微电子装备公司生产的90nm光刻机SSX600系列,一直传说当中的28nm光刻机可能处于验证阶段。
ASML的CEO说,一旦中国人掌握了光刻机,ASML将会非常被动。
同时他也指出,这个时间只需要3年,也就是3年时间中国人就会掌握光刻机。
要知道现在全世界最先进的光刻机荷兰的ASML旗下的EUV极紫外光刻机可以生产5nm甚至3nm的芯片。
我们离世界最先进的ASML还有非常大的差距,这也是我们被卡脖子的原因。
这也是华为现在手机销量大幅度下滑的重要原因,因为没有公司可以给华为生产芯片,则华为就没有足够的芯片用于制造更多的手机。
这也是华为P50不能推出来的原因,因为按照惯例,华为的P系列手机都会在每年的春天发布,搭载着最强大的摄像系统,但今年余承东在发布会上说了,不知道什么时候才能推出P50系列手机。
目前我国量产的最先进光刻机厂家是上海微电子装备公司,在他们的官方网站上可以看到,他们可以出售的是SSX600系列光刻机。
上海微电子装备光刻机
我们从***上可以看到,这种型号的光刻机可以用于制造90nm关键层光刻工艺需求。一直传闻当中的28nm光刻机现在还没有通过正式渠道发布,我们还需要一段时间等待,等待着结果。
我们国家可以生产,最高可以生产大概是60纳米左右的,对32纳米来说,不知道要等几年;实验室可以流片多少纳米未知,全球来说,ASML是欧洲跟美洲几十个国家企业一起出资供养的,原来日本可以生产,后来投入太大,被终止了,现在能适应市场的就只有ASML生产的光刻机,其它公司生产出来也没什么用的;在2018年今年7纳米光刻机就有了,2020年就是4纳米,2022年就有2纳米,这些都是生产线的***,光刻机的进度是在生产线之前;最大的问题是ASML的研发速度这么快,是大量资金跟***堆出来的;我国向追上去,很难,除非有其它特别的突破,不然先进制程永远无法民用。
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